金融界2025年2月21日讯，联合微电子中心有限责任公司近日宣布申请了一项名为﹃端面耦合器及其制备方法﹄的专利，该技术实现了光信号的逐级耦合，为光电子技术的发展注入了新动力。这一突破性技术不仅展现了我国在光电子领域的研发实力，也为未来光通信、光传感等领域的应用开辟了新的可能性。
作为一家专注于软件和信息技术服务的企业，联合微电子中心有限责任公司此番专利申请再次证明了其在技术创新方面的实力。该专利公开号为CN119493215A，申请日期为2024年12月。根据专利摘要，这项端面耦合器技术的核心在于通过倏逝场耦合方式实现光信号的逐级过渡，使光纤的模场能够高效地转换为波导模式，从而提升光信号的传输效率和稳定性。
这一技术不仅为光通信系统提供了更高效的解决方案，也为光电子器件的设计和制造提供了新的思路。未来，这项技术有望在数据中心、光纤通信等领域得到普遍应用，为我国在光电子领域的国际竞争力提供有力支撑。
值得关注的是，联合微电子中心有限责任公司近年来在知识产权方面的布局也日益完善。根据天眼查多个方面数据显示，该公司目前拥有专利信息302条，商标信息3条，以及4个行政许可。这些成果不仅体现了公司在研发技术上的持续投入，也为公司在行业内的领头羊奠定了坚实基础。
此外，联合微电子中心有限责任公司还热情参加招投标项目，截至目前已参与633次招投标。这些项目涵盖了多个领域，展现了公司在综合技术实力和服务能力方面的优势。
总之，联合微电子中心有限责任公司此次申请的端面耦合器专利，不仅是一次技术上的突破，更是我国在光电子领域持续创造新兴事物的能力的体现。我们期待这项技术能在实际应用中发挥更大的作用，为我国的光电子产业高质量发展注入新的活力。
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