中微公司：2024年营收突破90亿大关 刻蚀设备业务涨幅5473%

  上证报中国证券网讯4月17日晚，中微公司正式对外发布2024年年度报告。报告数据显示，凭借核心技术突破、研发高强度投入及运营效率优化，中微公司2024年展现出强劲的发展韧性，实现营业收入约90.65亿元，同比增长约44.73%，保持了近四年营收年均增幅大于40%；扣除非经常性损益的净利润约13.88亿元，同比增长约16.52%，主营业务盈利能力持续提升。

  近年来，随着人工智能、云计算、大数据、无人驾驶等数码技术相关的产业进一步加速发展，半导体微观制造设备作为数码产业的基石，其市场高速发展。

  2024年，中微公司营业收入突破90亿元大关，较2023年增加28.02亿元，在过去13年保持年均超35%的复合增长，近四年年均增速提升至40%以上。其中，刻蚀设备作为核心业务表现尤为亮眼，全年收入约72.77亿元，同比增长约54.73%，近四年年均增速超50%。成绩的背后印证了中微公司在刻蚀设备领域的全球竞争力。目前，中微公司的CCP(Capacitively Coupled Plasma，电容耦合等离子体)高能等离子体刻蚀设备和ICP(InductivelyCoupled Plasma，电感耦合等离子体)低能等离子体刻蚀设备已覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求，并在5纳米及更先进制程的国际领先产线中实现规模量产。

  值得一提的是，中微公司自主研发的ICP双台机Primo Twin-Star，其刻蚀精度达到每分钟0.2埃(0.02纳米)，相当于硅原子直径的十分之一。该设备在氧化硅、氮化硅等材料的刻蚀工艺中表现卓越，在200片硅片的重复性测试中，在左右两个反应台上各100片的平均刻蚀速度相差均小于每分钟1.5埃。两个反应台之间平均刻蚀速度的差别，远小于一个反应台加工多片晶圆刻蚀速度的差别。同时，公司的CCP双台机目前已有近600个反应台在国际最先进的逻辑产线上量产，其中相当一部分机台已在5纳米及更先进的生产线上用于量产。

  “工欲善其事，必先利其器。”中微公司深谙技术突破对行业的重要性。2024年，公司研发投入达24.5亿元，同比增长94.3%，占据营业收入比例约27%，远超科创板上市公司中等水准(10%-15%)。高强度的研发投入推动产品迭代速度明显提升——过去开发一款新设备需3至5年，如今仅需2年甚至更短时间即可完成。

  目前，中微在研项目涵盖六大类、超20款新设备，包括新一代CCP高能等离子体刻蚀设备、ICP低能等离子体刻蚀设备、晶圆边缘刻蚀设备、LPCVD(低压化学气相沉积)及ALD(原子层沉积)薄膜设备、硅和锗硅外延EPI设备、新一代等离子体源的PECVD设备和电子束量检测设备等。

  在泛半导体领域，中微的MOCVD(金属有机化学气相沉积)设备持续领跑全球市场，占据氮化镓基LED照明设备80%以上份额，并加速拓展碳化硅功率器件、Micro-LED等新兴领域。

  当前，全球半导体产业正迎来新一轮发展机遇。人工智能、云计算、无人驾驶等技术的普及，推动芯片制造向更先进制程演进，对刻蚀、薄膜沉积等核心设备的需求持续攀升。据SEMI预测，2025年全球半导体设备市场规模将达1,275亿美元(+16%)，中国大陆仍是最大市场。中微公司将如何借力这一发展潮流，坚持三维发展的策略和五个十大的企业文化，抓住市场机遇、扩大市场占有率并持续创新，值得期待。(郑玲)