京东方华灿光电请求发光二极管制备办法专利构成阻隔槽和台阶结构

  国家知识产权局信息数据显现，京东方华灿光电（浙江）有限公司请求一项名为“发光二极管制备办法”的专利，揭露号CN121262947A，请求日期为2025年9月。

  专利摘要显现，本揭露供给了一种发光二极管制备办法。该办法有：在衬底上顺次制造外延层和通明导电层；在通明导电层外表制造榜首光刻胶结构，在榜首光刻胶结构掩盖下显露通明导电层的边际部分；在榜首光刻胶结构遮挡下，对通明导电层进行榜首次腐蚀，去除通明导电层的边际部分；在榜首光刻胶结构和通明导电层遮挡下，对外延层进行榜首次刻蚀，构成阻隔槽，而且榜首光刻胶结构经过榜首次刻蚀构成掩盖规模更小的第二光刻胶结构；在第二光刻胶结构遮挡下，对通明导电层进行第2次腐蚀，去除通明导电层的边际部分；在第二光刻胶结构和通明导电层遮挡下，对外延层进行第2次刻蚀，构成台阶；去除第二光刻胶结构。

  天眼查资料显现，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，坐落金华市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。经过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外出资了3家企业，参加招投标项目44次，专利信息1035条，此外企业还具有行政许可42个。

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